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冷濺射小型磁控濺射儀是一種利用電子束轟擊靶材,將靶材濺射到基底表面形成薄膜的儀器。它的主要部分包括真空室、電子槍、靶材、磁控系統、基底臺和控制系統等。磁控濺射儀具有高沉積速率、高成膜質量和較大的靶材利用率等優點,廣泛應用于微電子、光學、磁性...
薄膜制備小型磁控濺射儀是一種用于物理學領域的物理性能測試儀器,用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。薄膜制備小型磁控濺射儀設備由磁控濺射...
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